設(shè)備搬運(yùn)設(shè)備裝卸設(shè)備安裝電鏡移位的亞瑟‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍報(bào)道：中國(guó)雖然也有自己的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)廠商——上海微電子裝備股份有限公司（SMEE），但是由于起步晚，再加上國(guó)外的技術(shù)封鎖，使得其在技術(shù)上與國(guó)外存在著較大差距。早在2002年，光刻機(jī)就被列入‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍863重大科技攻關(guān)計(jì)劃，上海微電子裝備有限公司也由此成立。主要從事半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備以及智能裝備的設(shè)計(jì)制造銷售，其中光刻設(shè)備是公司的主營(yíng)業(yè)務(wù)。‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍目前上海微電子的光刻機(jī)已可以應(yīng)用于集成電路產(chǎn)業(yè)鏈中晶圓制造、封裝測(cè)試，以及平板顯示、高亮度 LED 等領(lǐng)域。資料顯示，上海微電子直接持有各類專利及專利申請(qǐng)超過(guò)2400項(xiàng)。據(jù)上海微電子‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍介紹，其主要生產(chǎn) SSX600 和 SSX500 兩個(gè)系列的光刻機(jī)。其中，SSX600 系列步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應(yīng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù)，以及高速高精的自減振六自由度工件臺(tái)掩模臺(tái)技術(shù)，可滿足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層的光刻工藝需求，該設(shè)備可用于 8吋線或 12 吋線的大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)。SSB500 系列步進(jìn)投影光刻機(jī)不僅適用于晶圓級(jí)封裝的重新布線（RDL）以及 Flip Chip 工藝中常用的金凸塊、焊料凸塊、銅柱等封裝光刻工藝，還可以通過(guò)選配背面對(duì)準(zhǔn)模塊，滿足 MEMS 和 2.5D/3D 封裝的 TSV 光刻工藝需求。就是說(shuō)，目前上海微電子SSA600系列光刻機(jī)只能用于90nm制程的芯片制造。并且，上海微電子的光刻機(jī)的實(shí)際出貨情況也并不理想。根據(jù)‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍數(shù)據(jù)顯示，2020年所公開(kāi)的招中標(biāo)信息中，上海微電子已共計(jì)中標(biāo)2臺(tái)半導(dǎo)體用光刻機(jī)，將分別供應(yīng)給上海積塔半導(dǎo)體和中芯紹興。2021年1月，中標(biāo)1臺(tái)光刻機(jī)，供應(yīng)給長(zhǎng)江存儲(chǔ)。