聚焦離子《顯微鏡》搬運裝卸-

2021-02-01 　來自: 亞瑟半導(dǎo)體設(shè)備安裝（上海）有限公司瀏覽次數(shù):263

聚焦離子《顯微鏡》搬運裝卸-光刻機供應(yīng)商除ASML之外，Arthur聚焦離子《顯微鏡》搬運裝卸-還有日本廠商尼康和佳能。隨著EUV變得越來越重要，ASML的優(yōu)勢正變得越來越明顯。佳能和尼康僅能在“深紫外線”（DUV）光刻系統(tǒng)上與之競爭?？杉词乖贒UV領(lǐng)域，ASML精?密?設(shè)?備?搬?運?也擁有62％的市場份額。

然而，極紫外光刻產(chǎn)業(yè)又并不僅僅只有EUV光刻機。

根據(jù)精?密?設(shè)?備?搬?運?半導(dǎo)體專家Arthur的介紹，與EUV相關(guān)的還包括光掩膜缺陷檢測和涂覆顯影等周邊設(shè)備，以及光刻膠等關(guān)鍵材料。

光掩膜缺陷檢測設(shè)備可檢測光掩膜中存在的缺陷，如果承載原始電路的光掩膜存在缺陷，則芯片的缺陷率將相應(yīng)增加。因此該設(shè)備也十分重要。日本Lasertec是這一領(lǐng)域的主要制造商。

Lasertec公司的經(jīng)營企劃室室長三澤祐太朗指出：“隨著微縮化的發(fā)展，在步入2納米制程時，DUV的感光度可能會不夠充分?！辈捎肊UV光源的檢測設(shè)備的需求有望進一步增長。

EUV涂膠顯影設(shè)備用于將特殊的化學(xué)液體涂在硅片上作為半導(dǎo)體材料進行顯影。

作為光刻機的輸入（曝光前光刻膠涂覆）和輸出（曝光后圖形的顯影），涂膠/顯影機的性能直接影響到細(xì)微曝光圖案的形成，其顯影工藝的圖形質(zhì)量和缺陷控制對后續(xù)諸多工藝（諸如蝕刻、離子注入等）圖形轉(zhuǎn)移結(jié)果也有著深刻的影響。

東京電子是該領(lǐng)域的主要供應(yīng)商。東京電子的河合利樹社長指出，如果EUV的導(dǎo)入能促進整個工序的技術(shù)進步的話，與EUV沒有直接聯(lián)系的工序數(shù)也會增加。

國內(nèi)設(shè)備廠芯源微日前表示，公司前道涂膠顯影機與光刻機聯(lián)機的技術(shù)問題已經(jīng)攻并通過驗證，可以與包括ASML、佳能和精?密?設(shè)?備?搬?運?等品牌，以及上海微電子（SMEE）的光刻機聯(lián)機應(yīng)用。

光刻膠對分辨率、對比度、敏感度，以及粘滯性黏度、粘附性等要求極高。目前光刻膠主要企業(yè)有日本合成橡膠（JSR）、東京應(yīng)化（TOK）、住友化學(xué)、信越化學(xué)、美國羅門哈斯等，所占市場份額超過85%，市場集中度非常高。

目前，

中國已經(jīng)可以量產(chǎn)G線、I線、KrF三大類光刻膠。

南大光電計劃通過3年的建設(shè)、投產(chǎn)及實現(xiàn)銷售，達(dá)到年產(chǎn)25噸193nm（ArF干式和浸沒式）光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)規(guī)模，未來將攻關(guān)EUV光刻膠。

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