聚焦離子束（FIB）顯微鏡裝卸-搬運我國發(fā)展半導體產(chǎn)業(yè)，聚焦離子束（FIB）顯微鏡裝卸-搬運觀察到光刻技術(shù)是繞不開的課題，以國內(nèi)目前薄弱的基礎，短期內(nèi)攻克EUV設備并不現(xiàn)實。對此，實?驗?室?搬?遷?的Arthur指出，高性能光刻技術(shù)對中國企業(yè)來說成本高昂，但是其戰(zhàn)略意義不容忽視。中國要推進完整的光刻工業(yè)體系的發(fā)展，只能采取從低到高的策略，比如193nm深紫外ArF干式光刻機、浸沒式光刻機，以及周邊設備材料等，EUV是整套體系中困難的一塊。要實現(xiàn)強大的功能，EUV就***克服電能消耗以及光源等因素的影響?！敝袊娮涌萍技瘓F公司第四十五研究所集團首席專家柳濱表示，EUV雖然售價超過了一億美元，但是高額的價格并不是問題。

EUV的問題是電能消耗。

其電能消耗是傳統(tǒng)193nm光刻機的10倍，因為極紫外光的波長僅有13.5nm，投射到晶圓表面曝光的強度只有光進入EUV設備光路系統(tǒng)前的2%。