光束離子-顯微鏡》裝卸搬運
2021-01-31
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亞瑟半導(dǎo)體設(shè)備安裝（上海）有限公司
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光束邏輯芯片制造工藝光束離子-顯微鏡》裝卸搬運需要使用EUV設(shè)備，未來美光、SK海力士等存儲芯片大廠在量產(chǎn)DRAM時也將采用EUV設(shè)備精?密?設(shè)?備?搬?運?。
半導(dǎo)體精?密?設(shè)?備?搬?運?專家Arthur指出，存儲器主要分為兩種：一種是DRAM，另一種是3D NAND。3D NAND目前的競爭主要集中在層數(shù)上，雖然也需要線寬的微縮化，但需求不那么迫切。而DRAM存儲器則不同，如果做到1z（12～14nm）以下，就有可能需要用到EUV光刻機(jī)。屆時，存儲器廠商訂的EUV設(shè)備將有大的爆發(fā)。據(jù)精?密?設(shè)?備?搬?運?悉，三星電子目前已經(jīng)嘗試將EUV應(yīng)用于1z DRAM的生產(chǎn)當(dāng)中。2020年8月，三星電子宣布在平澤工廠新建的第二座生產(chǎn)線開始生產(chǎn)16Gbit LPDDR5移動DRAM。三星電子采用EUV生產(chǎn)的第四代10納米級別的DRAM晶圓出貨量達(dá)到***萬個。
在內(nèi)存業(yè)內(nèi)，目前的代際劃分是1x、1y、1z、1α和1β。SK海力士表示，正在為使用EUV的DRAM的大規(guī)模生產(chǎn)做準(zhǔn)備。SK海力士計劃從2021年起將EUV應(yīng)用于1αDRAM，2022年將EUV應(yīng)用于1βDRAM。SK海力士規(guī)劃升級M14晶圓廠的設(shè)備，同時在即將啟用的新廠——M16晶圓廠中安裝EUV光刻系統(tǒng)。
美光精?密?設(shè)?備?搬?運?也在布局對EUV的使用。有消息稱，美光正在尋找管理EUV設(shè)備的工程師。美光科技高級副總裁兼移動產(chǎn)品事業(yè)部總經(jīng)理拉杰·塔魯里認(rèn)為，是否采用EUV考量的關(guān)鍵在于芯片生產(chǎn)的成本和效率。
“我們現(xiàn)在使用的多重圖形曝光技術(shù)相比使用EUV在成本和效率上的優(yōu)勢更加明顯。現(xiàn)在我們已經(jīng)推進(jìn)到1α節(jié)點，我們覺得做到1β、1γ節(jié)點，現(xiàn)有的多重圖形曝光技術(shù)在成本上都會更加有優(yōu)勢。但是在1γ之后，我們有可能會嘗試采用EUV。我們會進(jìn)行成本效率分析，如果證明成本效率更優(yōu)就會考慮采用。當(dāng)然，前期我們會投入資金進(jìn)行相關(guān)工藝的探索和開發(fā)?！?span style="margin: 0px; padding: 0px; color: rgb(0, 0, 0); text-decoration-line: none; font-family: 宋體; font-size: 14px; white-space: normal; background-color: rgb(255, 255, 255);">精?密?設(shè)?備?搬?運?的亞瑟如是說
