半導(dǎo)體設(shè)備搬運(yùn)】-半導(dǎo)體設(shè)備搬運(yùn)價(jià)格|批發(fā)-半導(dǎo)體設(shè)備氣墊車運(yùn)輸?shù)膩喩獔?bào)道：半‍導(dǎo)‌體‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍近日，荷蘭阿斯麥（ASML）公司在美國(guó)芯片禁令后向上海鼎泰匠芯科技有限公司成功交付首臺(tái)ASML光刻機(jī)，但是這臺(tái)光刻機(jī)的制程屬于DUV深紫外光，并不是進(jìn)的EUV極紫外光設(shè)備，這一舉動(dòng)引發(fā)了廣泛熱議。對(duì)于光刻機(jī)而半‍導(dǎo)‌體‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍核心的技術(shù)就是光源，光刻機(jī)按光源技術(shù)進(jìn)步次序可分為紫外光（UV）、深紫外光（DUV）、極紫外光（EUV）三大類。半‍導(dǎo)‌體‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍能夠制造EUV光刻機(jī)的企業(yè)只有荷蘭ASML一家企業(yè)，日本的佳能、尼康和中國(guó)上海微電子僅能制造DUV光刻機(jī)。荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī)采用的是美國(guó)研發(fā)提供的13.5nm極紫外光源為工作波長(zhǎng)的投影光刻技術(shù)，中國(guó)DUV光刻機(jī)使用的是波長(zhǎng)193nm深紫外光源技術(shù)。半‍導(dǎo)‌體‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍極紫外光刻技術(shù)研發(fā)突破的關(guān)鍵點(diǎn)主要是光源、掩模技術(shù)、光刻膠，那么當(dāng)前半‍導(dǎo)‌體‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍極紫外光刻技術(shù)研發(fā)進(jìn)展如何？半‍導(dǎo)‌體‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍來(lái)看，美國(guó)和日本都在極紫外光刻方面已進(jìn)行了深入的研究。小編通過(guò)查詢智慧芽研發(fā)情報(bào)庫(kù)半‍導(dǎo)‌體‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍共有1337條專利數(shù)據(jù)（已去重同時(shí)在多個(gè)地區(qū)申請(qǐng)的專利），其中半‍導(dǎo)‌體‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍極紫外光刻”專利技術(shù)擁有者主要有：臺(tái)灣積體電路制造股份有限公半‍導(dǎo)‌體‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍卡爾蔡司SMT有限責(zé)任公半‍導(dǎo)‌體‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍旭硝子株式會(huì)社半‍導(dǎo)‌體‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍ASML荷蘭有限公司半‍導(dǎo)‌體‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍英特爾公司等