精密設(shè)備搬運目前臺積電實現(xiàn)了5nm,4nm等芯片的穩(wěn)定量產(chǎn),而三星在今年6月底就成功進入3nm量產(chǎn)狀態(tài)。臺積電也會按照計劃,在下半年進入3nm量產(chǎn)。不過4nm,3nm不是芯片制程的終點,摩爾定律還沒有就此結(jié)束,在3nm以下還能實現(xiàn)更精密設(shè)備搬運的2nm。
而ASML新一代的High-NA EUV 光刻機會成為生產(chǎn)2nm芯片的關(guān)鍵設(shè)備。自從ASML研制High-NA EUV 光刻機以來,進度遠超想象。今年7月份ASML透露收到了機械投影,光源以及晶圓載物臺等核心元器件。這意味著供應(yīng)商已經(jīng)在配合ASML的生產(chǎn)需要,積極供貨。就在9月底,ASML進一步傳來消息,正式官宣明年向客戶交付首臺High-NA EUV 光刻機。這臺光刻機最高或可生產(chǎn)1nm芯片,當然,最終能否造得出來,還得看芯片制造商的技術(shù)。
ASML還說過,已經(jīng)拿到了5臺High-NA EUV 光刻機的預付訂單。但ASML并沒有透露這些客戶的信息。雖然不難猜測英特爾,三星和臺積電會精密設(shè)備搬運High-NA EUV 光刻機,可是其它半導體公司也會采購High-NA EUV 光刻機用于研究用途。而且英特爾,三星和臺積電這三大巨頭一時半會還無法造出2nm芯片,所以明年獲得High-NA EUV 光刻機精密設(shè)備搬運訂單的客戶,未必會拿來生產(chǎn)芯片。