<搬運(yùn)裝卸》特殊半導(dǎo)體設(shè)備的亞瑟看到：華懋科技（603306.SH）發(fā)布旗下產(chǎn)業(yè)基金東陽(yáng)凱陽(yáng)科技創(chuàng)新發(fā)展合伙企業(yè)（有限合伙）（以下簡(jiǎn)稱“東陽(yáng)凱陽(yáng)”）對(duì)外投資公告稱，東陽(yáng)凱陽(yáng)于2020年12月30日，與傅志偉、上海博康半?導(dǎo)?體?設(shè)?備?搬?運(yùn)?、徐州博康半?導(dǎo)?體?設(shè)?備?搬?運(yùn)?簽署了《投資協(xié)議》及其附屬文件。華懋科技半?導(dǎo)?體?設(shè)?備?搬?運(yùn)?通過東陽(yáng)凱陽(yáng)對(duì)徐州博康進(jìn)行投資，將切入半導(dǎo)體關(guān)鍵材料光刻膠領(lǐng)域。

此次交易分為***增資、轉(zhuǎn)股權(quán)以及追加投資權(quán)三個(gè)部分。具體來看，東陽(yáng)凱陽(yáng)出資3000萬元人民幣向徐州博康增資，增資完成后將持有徐州博康1.186%股權(quán)；東陽(yáng)凱陽(yáng)向標(biāo)的公司實(shí)控人傅志偉提供共計(jì)人民幣5.5億元的可轉(zhuǎn)股借款，東陽(yáng)凱陽(yáng)獲得無條件的轉(zhuǎn)股權(quán)，有權(quán)（但無義務(wù)）按照協(xié)議約定的條件，向傅志偉購(gòu)買其持有的徐州博康股權(quán)；東陽(yáng)凱陽(yáng)在行使轉(zhuǎn)股權(quán)的同時(shí)，有權(quán)（但無義務(wù)）按股權(quán)轉(zhuǎn)讓協(xié)議約定的條件，以2.2億元的投資款受讓傅志偉持有的徐州博康股權(quán)。徐州博康全稱為徐州博康信息化學(xué)品有限公司，成立于2010年，實(shí)控人為傅志偉。公司主要從事光刻材料領(lǐng)域中的化學(xué)品的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售。目前主要產(chǎn)品包括光刻單體、樹脂系列產(chǎn)品，光刻膠系列產(chǎn)品、添加劑及電子級(jí)溶劑、醫(yī)藥中間體等，是國(guó)內(nèi)電子化學(xué)品高新技術(shù)企業(yè)。光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一，特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是大大促進(jìn)了光刻膠的研究開發(fā)和應(yīng)用。光刻膠已經(jīng)成為半導(dǎo)體領(lǐng)域的關(guān)鍵材料之一。我國(guó)自主的光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展，也是我國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)自強(qiáng)打破國(guó)外壟斷征程上的重要一環(huán)。目的費(fèi)用對(duì)凈利潤(rùn)造成的影響）孰低的原則計(jì)算。

什么是光刻膠？光刻膠也叫光阻或光阻劑，顧名思義，是用來?yè)豕獾?，它是一種對(duì)光敏感的物質(zhì)，通過特定光源（如紫外光、離子束等）照射，會(huì)發(fā)生局部溶解度的變化。光刻膠分為負(fù)性膠和正性膠，光照過后變得不可溶的是負(fù)膠，反之叫正膠，正膠相對(duì)普及一些。鑒于光刻膠的這種特性，可以用來在納米級(jí)的芯片上蝕刻線路圖。我們可以在硅晶圓片上布置一層僅幾納米厚的金屬層，然后在上面涂一層光刻膠。然后我們可以用光把掩膜板，也就是類似“底片”上的電路圖，照射到光刻膠上，讓需要蝕刻的部位受光，需要保留的部位不受光，這就是所謂的“光刻”工藝。接著，用顯影液把受光的區(qū)域洗掉，掩膜板上設(shè)計(jì)好的線路圖就這么“復(fù)制”到硅晶圓片上了。那些暴露出來的金屬層就可以繼續(xù)用來加工處理，而未溶解的光刻膠則保護(hù)其他部分不受影響。所以，要把納米級(jí)的精細(xì)電路圖“畫”到硅片上，就離不開光刻工藝，更離不開光刻膠材料。光刻工藝耗費(fèi)的成本占總成本的35%，和硅片本身的成本比例（38%耗費(fèi)的時(shí)間更是達(dá)到總工藝的一半，是半?導(dǎo)?體?設(shè)?備?搬?運(yùn)?生產(chǎn)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。其中，光刻膠及其輔助材料耗費(fèi)的成本占比并不高，分別是5%和7%，但其中的關(guān)鍵性、重要性，不能用材料價(jià)值來衡量。其技術(shù)難點(diǎn)在于精密度，比如在晶圓片上涂膠時(shí)，誤差不能超過0.01微米（約10納米），膠體每升含有的金屬雜質(zhì)***少于0.1微克，顆粒個(gè)數(shù)更是幾乎不能有。

而且光刻膠的研究需要昂貴的曝光機(jī)半?導(dǎo)?體?設(shè)?備?搬?運(yùn)?，光刻過程需要光刻機(jī)等設(shè)備，荷蘭ASML光刻機(jī)一臺(tái)高達(dá)1億美元，1年僅能制作20幾臺(tái)。