PVD設(shè)備裝卸搬運(yùn)-鍍膜機(jī)設(shè)備移入移出捆包氣墊車(chē)運(yùn)輸?shù)膩喩獔?bào)道：‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍消息稱，集成電路領(lǐng)域14n‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍工藝規(guī)模實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，90nm光刻機(jī)、5nm刻蝕機(jī)、12英寸大硅片、國(guó)產(chǎn)CPU、5G芯片等實(shí)現(xiàn)突破。獨(dú)立技術(shù)分析師項(xiàng)立剛周三告訴《環(huán)球時(shí)報(bào)》，這標(biāo)志著中國(guó)公司大規(guī)模生產(chǎn)14納米芯片的能力‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍得到官方認(rèn)可。

這是對(duì)美國(guó)‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍擴(kuò)大封鎖對(duì)中國(guó)的高端芯片出口的有力回應(yīng)，將進(jìn)一步加速中國(guó)在核心技術(shù)方面的突破美國(guó)剛剛擴(kuò)大了對(duì)美國(guó)‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍向中國(guó)運(yùn)送用于AI和芯片制造工具的半導(dǎo)體的出口管控范圍。美國(guó)商務(wù)部已向包括KLA公司、Lam Research公司和Applied Materials公司在內(nèi)的公司發(fā)出通知，除非獲得商務(wù)部的許可，否則禁止向生產(chǎn)14nm以下工藝的‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍半導(dǎo)體的中國(guó)工廠出口芯片制造設(shè)備。戰(zhàn)略問(wèn)題獨(dú)立研究員Chen Jia表示，雖然10納米通常被作為‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍工藝的「基準(zhǔn)線」，但對(duì)中國(guó)來(lái)說(shuō)，14納米以上的成熟工藝可以滿足中國(guó)市場(chǎng)的大部分需求，項(xiàng)立剛說(shuō)。陳佳說(shuō)，在上海實(shí)現(xiàn)14nm芯片的量產(chǎn)，將大大有助于新能源汽車(chē)、智慧城市、智能制造和物聯(lián)網(wǎng)等領(lǐng)域的發(fā)展，有助于中國(guó)鞏固其作為世界頂級(jí)制造工廠的優(yōu)勢(shì)據(jù)中芯‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍稱，與14納米節(jié)點(diǎn)相比，其N(xiāo)+1技術(shù)可在相同的時(shí)鐘頻率和復(fù)雜度下，將性能提高20%?；蛟谙嗤男阅芎蛷?fù)雜度下，將功率降低57%此外，該技術(shù)有可能將現(xiàn)有芯片晶體管密度提高2.7倍。‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍按照業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)，新制程帶來(lái)的芯片性能提升應(yīng)該達(dá)到35%，但如果樂(lè)觀點(diǎn)說(shuō)，中芯已經(jīng)超越聯(lián)電、格芯，成為僅次于臺(tái)積電、三星的晶圓代工廠。中芯N+1工藝可以看成是「?jìng)?nm」。