高精密實(shí)驗(yàn)室設(shè)備搬運(yùn)搬遷-高校實(shí)驗(yàn)室設(shè)備搬運(yùn)搬遷-精密儀器設(shè)備搬遷的亞瑟報(bào)道：‌‌實(shí)‍驗(yàn)‌室‍搬‌遷‍從全世界范圍來看，芯片的運(yùn)用范圍越來越廣闊，而且各行各業(yè)對于高級芯片的需求也在不斷地?cái)U(kuò)大。只不過芯片的供給往往與需求不平衡，尤其容易出現(xiàn)供不應(yīng)求的情況，從而造成“芯片荒”的現(xiàn)象。眾所周知，‌‌實(shí)‍驗(yàn)‌室‍搬‌遷‍芯片的生產(chǎn)都是需要‌‌實(shí)‍驗(yàn)‌室‍搬‌遷‍技術(shù)和設(shè)備作為支撐，其中光刻機(jī)是生產(chǎn)芯片主要的一種設(shè)備。但除此之外，一種名叫光刻膠的物質(zhì)是生產(chǎn)‌‌實(shí)‍驗(yàn)‌室‍搬‌遷‍片的重要原料,只不過長期以來‌‌實(shí)‍驗(yàn)‌室‍搬‌遷‍芯片所需要的高級光刻膠的生產(chǎn)都被日本的東京應(yīng)化、JSR所壟斷，國內(nèi)的企業(yè)在光刻膠的生產(chǎn)方面幾乎沒有話語權(quán)。值得一提的是，隨著時間的發(fā)展，一些國內(nèi)企業(yè)也對光刻膠的生產(chǎn)進(jìn)行了技術(shù)的突破。而徐州博康這家企業(yè)在2021年的時候獲得了華為3億元的投資，并借此機(jī)會，打破了日資的壟斷，使我國掌握了更加‌‌實(shí)‍驗(yàn)‌室‍搬‌遷‍光刻膠的生產(chǎn)技術(shù)，那么具體的情況到底是怎樣呢？不可否認(rèn)的是，全世界范圍內(nèi)能夠生產(chǎn)‌‌實(shí)‍驗(yàn)‌室‍搬‌遷‍雖然芯片的外表看起來其貌不揚(yáng)，但芯片的生產(chǎn)過程卻十分復(fù)雜，且需要強(qiáng)硬的技術(shù)作為支撐，尤其晶片制作的環(huán)節(jié)是生產(chǎn)芯片過程中‌‌實(shí)‍驗(yàn)‌室‍搬‌遷‍一個環(huán)節(jié)。其中，在芯片圖形的形成過程中，對于光刻機(jī)的精確度以及光刻膠的品質(zhì)是十分具有考驗(yàn)性的。比如說目前能夠制造出3納米及以下的EUV光刻機(jī)，只有荷蘭的ASML公司能夠生產(chǎn)出來。對于我國來說，雖然光刻機(jī)的生產(chǎn)技術(shù)在不斷的突破，但距離ASML的光刻機(jī)還具有很長的一段距離。而除此之外，我國的光刻膠在此之前也頻頻受制于人，從而進(jìn)一步限制了我國芯片領(lǐng)域的發(fā)展。‌‌實(shí)‍驗(yàn)‌室‍搬‌遷‍不同精度的光刻機(jī)對于光刻膠的特性要求是不一樣的，并且每一種光刻機(jī)都有對應(yīng)的光刻膠使用要求。比如說現(xiàn)在的光刻機(jī)分為三種，UV光刻機(jī)，DUV光刻機(jī)以及EUV光刻機(jī)，其中，目前‌‌實(shí)‍驗(yàn)‌室‍搬‌遷‍的光刻機(jī)就是EUV光刻機(jī)，其生產(chǎn)出來的芯片也是精度高的。不過僅有光刻機(jī)還不行，EUV光刻機(jī)還需要對應(yīng)EUV光刻膠進(jìn)行使用。‌‌實(shí)‍驗(yàn)‌室‍搬‌遷‍一般來說，光刻膠由三種主要成分構(gòu)成，分別是感光樹脂，增感劑以及溶劑，而光刻膠的主要應(yīng)用場所是將它涂在晶圓表面，當(dāng)光刻機(jī)的紫外光照射在晶圓之上，正性的光刻膠會被留下來，而負(fù)性的光刻膠就會被溶解。之所以光刻膠對芯片具有關(guān)鍵作用，其主要表現(xiàn)在光刻膠的性能決定了所制造芯片的分辨率是怎樣的。而越‌‌實(shí)‍驗(yàn)‌室‍搬‌遷‍光刻膠所具有的分辨率就會越高，并且相對應(yīng)的光刻膠所需要的生產(chǎn)技術(shù)也會越嚴(yán)格。