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半導(dǎo)體設(shè)備搬運(yùn)一站式服務(wù)

2021-12-28  來(lái)自: 亞瑟半導(dǎo)體設(shè)備安裝(上海)有限公司 瀏覽次數(shù):250

半導(dǎo)體設(shè)備搬運(yùn)一站式服務(wù)的亞瑟精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍報(bào)道:精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍被半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)奉為圭臬的“摩爾定律”就將邁入第57個(gè)年頭,同時(shí),它也將進(jìn)入“將死”的又一年。自1965年,摩爾定律精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍被提出來(lái)以后,精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍芯片技術(shù)基本都是在這原理下運(yùn)行,它見(jiàn)證了人類(lèi)信息技術(shù)前進(jìn)的腳步。精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍回顧過(guò)去,從本世紀(jì)初開(kāi)始,就不斷有業(yè)界大佬預(yù)測(cè)摩爾定律“將死”。2004年半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展路線(xiàn)圖(ITRS)修訂版就預(yù)測(cè),摩爾定律這種線(xiàn)性發(fā)展可能繼續(xù)保持10-15年。2013年,美研究項(xiàng)目局認(rèn)為,2020年、7納米將是芯片的制程節(jié)點(diǎn)。其微系統(tǒng)技術(shù)辦公室主管羅伯特-克羅韋爾表示,預(yù)計(jì)芯片產(chǎn)業(yè)會(huì)花大工夫推進(jìn)5納米制程,這會(huì)將摩爾定律的終結(jié)時(shí)間推遲到2022年。2015年,博通首席技術(shù)官Henry Samueli表示:“摩爾定律已經(jīng)頭發(fā)花白,步履蹣跚了。它還沒(méi)死,但是時(shí)候退休了。”在“摩爾定律將死”的無(wú)形之劍下,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)經(jīng)歷了一年又一年,到如今芯片制程節(jié)點(diǎn)已經(jīng)沖刺3nm。而研究人員也“頭頂懸劍”,不斷地開(kāi)拓新材料、新晶體管、新設(shè)備等領(lǐng)域,以此來(lái)迎接未來(lái)芯片的挑戰(zhàn)。眾所周知,晶圓的原始材料是硅,硅作為一種半導(dǎo)體可以通過(guò)引入少量雜質(zhì)的方法,調(diào)節(jié)為良好的導(dǎo)體或者絕緣體。然而,隨著近年來(lái)集成電路的制程進(jìn)入5nm以下,晶體管的尺寸不斷縮近其物理極限,傳統(tǒng)的硅基材料越來(lái)越難以支撐集成電路性能的進(jìn)一步發(fā)展。精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍二維材料是一種從2004年發(fā)展起來(lái)的新材料,以過(guò)渡金屬硫族化合物(精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍)為代表,包括通式為MX2的過(guò)渡金屬二鹵化物(精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍),其中M為過(guò)渡金屬(例如,Mo或W),X為硫族元素(例如S、Se或Te)。這種材料具有極限厚度、高遷移率和后端異質(zhì)集成等特點(diǎn),將有望變革傳統(tǒng)集成電路的架構(gòu),受到了學(xué)術(shù)界和工業(yè)界的關(guān)注。目前,英特爾、三星、臺(tái)積電等處于芯片技術(shù)前沿的大廠們都已布局這個(gè)領(lǐng)域。為了應(yīng)對(duì)未來(lái)芯片危機(jī),歐洲也致力于石墨烯等二維材料研發(fā)。此外,我國(guó)北京大學(xué)、南京大學(xué)等也在這個(gè)領(lǐng)域取得了技術(shù)突破

近日,在2021 IEEE電子器件會(huì)議(IEDM)上,英特爾公布了突破摩爾定律的三種新技術(shù),這些技術(shù)的目標(biāo)是在2025年之后還能使芯片技術(shù)繼續(xù)發(fā)展,而其中就提及了二維材料。據(jù)了解,英特爾提出用一種叫做(過(guò)渡金屬硫化物)的二維材料代替硅成為電流通道,特點(diǎn)是在通道下面,有一層非常薄的,單層的二硫化物原子層,可以作為更短的通道。英特爾制造、供應(yīng)鏈和營(yíng)運(yùn)集團(tuán)副總裁、戰(zhàn)略規(guī)劃部聯(lián)席總經(jīng)理盧東暉指出,“硅的問(wèn)題是無(wú)法繼續(xù)往下縮,再往下縮會(huì)出現(xiàn)很多量子效應(yīng),但二維材料有自己本身的特質(zhì),所以可以做得非常小。”英特爾在材料上精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍突破是用兩種不同的金屬去做金屬接觸,NMOS用的是銻,PMOS用的是釕,這樣能讓電容更小。英特爾表示將單層二硫化鉬MoS?應(yīng)用于硅芯片連接層可以使得間距從15nm縮小至5nm,解決傳統(tǒng)硅芯片的物理限制。



運(yùn)營(yíng)項(xiàng)目

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