電鏡搬運(yùn)移入定位氣墊車運(yùn)輸?shù)膩喩獔?bào)道：‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍發(fā)現(xiàn)一段時(shí)間以來，因?yàn)榈鼐壵蔚纫蛩氐挠绊懀瑖鴥?nèi)對(duì)光刻膠的關(guān)注也逐漸增加。所謂光刻膠（又稱光致抗蝕劑），據(jù)浙商證券的介紹，這是一種對(duì)光敏感的混合液體。其組成部分包括：光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓?xì)圖形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍作為芯片生產(chǎn)不可或缺的一種原材料，與5000億美元的半導(dǎo)體市場相比，光刻膠的市場規(guī)模并不大。據(jù)TECHCET發(fā)布統(tǒng)計(jì)和預(yù)測數(shù)據(jù)：2021年，半導(dǎo)體制造所需的光刻膠市場規(guī)模將同比增長11%，達(dá)到19億美元。但在過去多年里，這個(gè)市場一直被日本和美國廠商所壟斷，尤其是在EUV光刻膠上面，那更是日本廠商一統(tǒng)天下。但從‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍國產(chǎn)廠商的一些消息看來，本土光刻膠初露曙光。據(jù)‌‍精‌密‍設(shè)‌備‍搬‌運(yùn)‍報(bào)道，按照曝光波長分類，光刻膠可分為紫外光刻膠(300-450nm)、深紫外光刻膠(160-280nm)、極紫外光刻膠(EUV，13.5nm)、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X射線光刻膠等。不同曝光波長的光刻膠，其適用的光刻極限分辨率不同，通常來說，在使用工藝方法一致的情況下，波長越小，加工分辨率越佳。